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Novo MKS EDGE6060A-G12 Casadores de RF

Novo MKS EDGE6060A-G12 Casadores de RF

Novo MKS EDGE6060A-G12 Casadores de RF

Alta precisão, desempenho estável

Adequado para automação industrial

Em estoque e entrega rápida em todo o mundo

  • Item NÃO.:

    EDGE6060A-G12

  • Pedido (quantidade mínima):

    1

  • Pagamento:

    100% T/T

  • Origem do Produto:

    USA

  • Cor:

    As Model

  • Porto de embarque:

    Xiamen

  • Tempo de espera：

    2-3 days
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  • Detalhes do produto

Descrição:

MKS RF Matchers (também chamados de caixas/redes de casamento de RF) são dispositivos de casamento automático de impedância de alto desempenho projetados para sistemas de plasma industriais e de semicondutores. Eles alinham dinamicamente a impedância de saída de 50Ω dos geradores de RF com a impedância variável de câmaras de plasma, equipamentos de gravação (etchers), PECVD e sputtering, minimizando a potência refletida e maximizando a eficiência de transferência de potência. Com ajuste rápido, blindagem robusta e designs compactos para montagem em rack, garantem ignição estável do plasma, desempenho de processo consistente e confiabilidade de produção 24/7. Disponíveis em condições novos, recondicionados e usados totalmente testados.
 
 
 
Especificações principais:
  1. Casamento automático de impedância: ajuste em tempo real para combinar a saída de 50Ω do gerador com a impedância variável de carga do plasma; minimiza a potência refletida (tipicamente
  2. Velocidade de ajuste rápida: resposta de alta velocidade (
  3. Ampla cobertura de frequência e potência: suporta 13.56MHz (padrão), 27.12MHz, 40.68MHz; potências de 300W a 10kW
  4. Construção robusta: gabinete metálico reforçado com blindagem EMI/RFI; resfriamento a ar padrão (opção de resfriamento a água para modelos de alta potência)
  5. Componentes de precisão: capacitores variáveis de alta qualidade, indutores e motores de passo para longa vida útil (1.000.000+ ciclos)
 
 
 

Aplicações:

  1. Fabricação de semicondutores: gravação RIE/ICP, deposição PECVD/LPCVD, ashing de plasma, limpeza de wafers, sistemas de load lock
  2. Revestimento a vácuo: sputtering, evaporação, deposição de filmes finos PVD/CVD para óptica, displays e células solares
  3. Tratamento de plasma industrial: ativação de superfície, limpeza, gravação e revestimento para metais, plásticos e cerâmicas
  4. Pesquisa e desenvolvimento: laboratórios universitários, instituições de pesquisa e linhas de produção piloto que exigem fornecimento estável de plasma RF

 

 

FAQ:

Q1:Qual é a situação do produto e como é a garantia?
R:Itens novos e originais. Garantia de 1 ano incluída.

Q2:Quais são os seus termos de pagamento?
R:Aceitamos T/T, Paypal.

Q3: Qual é o prazo de entrega do produto? Há estoque suficiente?
R:Modelos padrão em estoque, enviados em 3–5 dias úteis após o pagamento. Modelos raros exigem pedido ao fabricante—entre em contato com o atendimento ao cliente para prazos.

Q4:Envio e rastreamento
R:DHL/FedEx/UPS disponíveis. Número de rastreamento + link fornecidos após o envio. Monitoramento de todo o processo pela nossa equipe.

Q5:Embalagem e segurança

 

R:Embalagem original da marca com proteção reforçada (espuma, caixas seladas, caixas de madeira para equipamentos de precisão). Resistente à umidade e impactos.

 

 

Tags relacionadas : Industrial equipment Automation components RF Matchers
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