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Novo em folha Lam Research P36W-L20 Controlador de fluxo de massa

Novo em folha Lam Research P36W-L20 Controlador de fluxo de massa

Novo em folha Lam Research P36W-L20 Controlador de fluxo de massa

Alta precisão, desempenho estável

Adequado para automação industrial

Em estoque & entrega rápida em todo o mundo

  • Item NÃO.:

    P36W-L20

  • Pedido (quantidade mínima):

    1

  • Pagamento:

    100% T/T

  • Origem do Produto:

    USA

  • Cor:

    As Model

  • Porto de embarque:

    Xiamen

  • Tempo de espera：

    2-3 days
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  • Detalhes do produto

Descrição:

Os espectrômetros de fibra óptica da LAM Research são dispositivos de monitoramento óptico de alta precisão integrados para equipamentos de processamento de wafers semicondutores. Principalmente combinados com módulos ópticos profissionais, eles adotam um design de transmissão por fibra óptica para capturar emissão de plasma, espectros de reflexão e transmissão dentro das câmaras de processo. Amplamente utilizados para detecção de endpoint de gravação (etch), metrologia de filmes finos e monitoramento em tempo real das condições de plasma, essas unidades garantem desempenho estável do processo, melhoram o rendimento de produção e reduzem produtos defeituosos em processos de etch, CVD, PVD e outros procedimentos de fabricação a vácuo. Como componentes originais compatíveis com OEM, apresentam excelente compatibilidade e confiabilidade de longo prazo para ferramentas de processo da série completa da LAM.
 
 
 
Especificações principais:
  1. Equipados com detectores CCD/PMT de alta sensibilidade, oferecendo excelente resolução espectral e baixo ruído. Cobre a faixa de comprimento de onda UV-visible para atender às diversas demandas de monitoramento de processos semicondutores.
  2. Interfaces de fibra SMA padrão suportam transmissão de sinal de longa distância. Sondas compatíveis com vácuo operam de forma estável em ambientes de alto vácuo, alta temperatura e plasma.
  3. A análise espectral em tempo real permite julgamento preciso do endpoint de etch, medição da espessura de filmes finos e propriedades ópticas, evitando efetivamente over-etching e under-etching.
  4. Portas de comunicação Ethernet e RS-232 integradas, totalmente compatíveis com protocolos de equipamentos LAM para interação de dados e integração de sistema sem interrupções.
  5. Estrutura compacta e robusta com capacidade anti-vibração e anti-interferência. Suporta operação contínua 24/7 e substituição fácil no local.
 

 

Aplicações típicas:

  1. Sistemas de plasma etching, equipamentos de deposição de filmes finos CVD, PVD e ALD
  2. Detecção de endpoint para processos de gravação de wafers
  3. Medição in-situ da espessura de filmes finos e refletância
  4. Análise em tempo real do estado do plasma em câmaras de processo a vácuo
  5. LAM Research 2300, 9400, ExAL e outras plataformas de processo principais

 

 

Perguntas frequentes:

Q1:Qual é a condição do produto e como é a garantia?
A:Itens originais novos. Garantia de 1 ano incluída.

Q2:Quais são as condições de pagamento?
A:T/T, Paypal suportados.

Q3: Qual é o prazo de entrega do produto? Há estoque suficiente?
A:Modelos padrão em estoque, enviados em 3–5 dias úteis após o pagamento. Modelos escassos exigem pedido ao fabricante—entre em contato com o atendimento ao cliente para prazos.

Q4:Envio e rastreamento
A:DHL/FedEx/UPS disponíveis. Número de rastreamento + link fornecidos após o envio. Monitoramento de todo o processo pela nossa equipe.

Q5:Embalagem e segurança

 

A:Embalagem original da marca com proteção reforçada (espuma, caixas seladas, caixas de madeira para equipamentos de precisão). Resistente à umidade e impacto.

 

 

Tags relacionadas : Industrial equipment Automation components Mass Flow Controller
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