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Novo em folha MKS MWJ-1213 Casadores de RF

Novo em folha MKS MWJ-1213 Casadores de RF

Novo em folha MKS MWJ-1213 Casadores de RF

Alta precisão, desempenho estável

Adequado para automação industrial

Em estoque e entrega rápida em todo o mundo

  • Item NÃO.:

    MWJ-1213
  • Pedido (quantidade mínima):

    1
  • Pagamento:

    100% T/T
  • Origem do Produto:

    USA
  • Cor:

    As Model
  • Porto de embarque:

    Xiamen
  • Tempo de espera:

    2-3 days
  • Detalhes do produto

Descrição:

MKS RF Matchers (também chamados de caixas/redes de casamento de RF) são dispositivos de casamento de impedância automático de alto desempenho projetados para sistemas de plasma industriais e de semicondutores. Eles alinham dinamicamente a impedância de saída de 50Ω dos geradores de RF com a impedância variável de câmaras de plasma, gravadores (etchers), PECVD e equipamentos de sputtering, minimizando a potência refletida e maximizando a eficiência de transferência de potência. Com ajuste rápido, blindagem robusta e designs compactos para montagem em rack, eles garantem ignição de plasma estável, desempenho de processo consistente e confiabilidade de produção 24/7. Disponíveis em condições novas, recondicionadas e usadas totalmente testadas.
 
 
 
Especificações principais:
  1. Casamento automático de impedância: Ajuste em tempo real para combinar a saída de 50Ω do gerador com a impedância variável da carga de plasma; minimiza a potência refletida (tipicamente
  2. Velocidade de ajuste rápida: resposta de alta velocidade (
  3. Ampla cobertura de frequência e potência: suporta 13.56MHz (padrão), 27.12MHz, 40.68MHz; potência de 300W a 10kW
  4. Construção robusta: gabinete metálico reforçado com blindagem EMI/RFI; resfriamento a ar padrão (opção com resfriamento a água para modelos de alta potência)
  5. Componentes de precisão: capacitores variáveis de alta qualidade, indutores e motores de passo para longa vida útil (mais de 1.000.000 de ciclos)
 
 
 

Aplicações:

  1. Fabricação de semicondutores: gravação RIE/ICP, deposição PECVD/LPCVD, ashing de plasma, limpeza de wafers, sistemas de load lock
  2. Revestimento a vácuo: sputtering, evaporação, deposição de filmes finos PVD/CVD para óptica, displays e células solares
  3. Tratamento de plasma industrial: ativação de superfície, limpeza, gravação e revestimento para metais, plásticos e cerâmicas
  4. Pesquisa e desenvolvimento: laboratórios universitários, instituições de pesquisa e linhas de produção piloto que exigem fornecimento estável de plasma RF

 

 

Perguntas frequentes:

Q1: Qual é a condição do produto e como é a garantia?
A: Itens novos e originais. Garantia de 1 ano incluída.

Q2: Quais são as condições de pagamento?
A: T/T, Paypal suportados.

Q3: Qual é o prazo de entrega do produto? Há estoque suficiente?
A: Modelos padrão em estoque, enviados em 3–5 dias úteis após o pagamento. Modelos raros exigem pedido ao fabricante — entre em contato com o atendimento ao cliente para prazos.

Q4: Envio e rastreamento
A: DHL/FedEx/UPS disponíveis. Número de rastreamento + link fornecidos após o envio. Monitoramento de todo o processo por nossa equipe.

Q5: Embalagem e segurança

 

A: Embalagem original da marca com proteção reforçada (espuma, caixas seladas, caixas de madeira para equipamentos de precisão). Resistente à umidade e a impactos.

 

 

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